Ｋｅｙ　Ｗｏｒｄ　キー・ワード〜『ＥＢ直描』
日経マイクロデバイス　第287号　2009.5.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第287号（2009.5.1）
ページ数	1ページ　（全717字）
形式	PDFファイル形式　（267kb）
雑誌掲載位置	9ページ目

　「スループットが低すぎて使い物にならない」。長くこのように指摘されてきたＥＢ（電子ビーム）直描技術に，光明が差してきた。ＬＳＩの試作や小規模生産に対応できる１ウエーハ／時を，ここ２〜３年で実現する見通しが付いた（図１）。５ウエーハ／時以上を目指す技術開発も大きく進み始めた。業界を挙げて設計環境を構築　ＥＢ直描は，ここへ来て「再び注目を集めている」（大手マスク・メーカーのリソグラフィ技術者）。技術…