Ｉｎｔｅｒｖｉｅｗ　インタビュー〜先端ＬＳＩ開発のしきいを下げる
日経マイクロデバイス　第286号　2009.4.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第286号（2009.4.1）
ページ数	2ページ　（全2879字）
形式	PDFファイル形式　（365kb）
雑誌掲載位置	104〜105ページ目

先端世代のＬＳＩ開発のハードルを下げる。こうした目標を掲げて，ＬＳＩメーカーや装置・部材メーカー，ＥＤＡベンダーを含む２０社が２００９年２月に「ｅＢｅａｍ　Ｉｎｉｔｉａｔｉｖｅ」を立ち上げた。電子ビーム（ＥＢ）直描で製造するＬＳＩ向けの設計環境の構築を目指す。同イニシアチブの発起人である米Ｄ２Ｓ，　Ｉｎｃ．のＡｋｉ　Ｆｕｊｉｍｕｒａ氏に設立の狙いや今後の取り組みを聞いた。米Ｄ２Ｓ，　Ｉｎｃ．　Ｃｈ…