Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜大日本印刷，１８ｎｍ世代半導体プロセス対応のナノインプリント用テンプレートを開発
日経マイクロデバイス 第269号 2007.11.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第269号（2007.11.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全309字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （296kb） |
| 雑誌掲載位置 | 117ページ目 |
大日本印刷は，１８ｎｍ世代の半導体プロセスに対応したナノインプリント用テンプレート（Ｓｉ基板上に回路パターンを形成する際に用いるパターン加工を施した型）を開発した。このテンプレートは，半導体メーカーにおいてＳｉウエーハ上へのパターン転写に成功したものという。同社は２００５年に４５ｎｍ世代のテンプレート開発に成功して以来，材料・プロセス面で改良を重ね，今回の１８ｎｍ世代に対応したテンプレートの作製…
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ（全309字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜主要メーカーのＣＥＯが太陽電池市場の今後を議論
Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜フレキシブル太陽電池に新規参入者現る米社が初展示
Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ＳＵＭＣＯ，太陽電池向けＳｉウエーハ事業１ＧＷ相当に拡大へ
Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜フラッシュ・メモリー大手のＳｐａｎｓｉｏｎがＳａｉｆｕｎを買収へ
Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＦＰＤ］〜中小型でも「液晶の次は液晶」シャープが厚さ２．８８ｍｍの液晶で有機ＥＬに対抗
