Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］〜Ｍｉｃｒｏｎが西脇工場の全貌を明らかに次は９０ｎｍの低電力版を強化
日経マイクロデバイス 第263号 2007.5.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第263号（2007.5.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全2054字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （631kb） |
| 雑誌掲載位置 | 89〜90ページ目 |
「生産工程の“カイゼン”によって，この数年で約４０％の増産を実現した」（マイクロンジャパン 西脇工場 ファブマネージャーのＳｃｏｔｔ Ｍｅｉｋｌｅ氏）。製品戦略の最適化で「２００９年には半導体市場の３４％をわれわれのターゲットにできる」（米Ｍｉｃｒｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｉｎｃ． Ｃｈａｉｒｍａｎ， Ｐｒｅｓｉｄｅｎｔ ａｎｄ ＣＥＯのＳｔｅｖｅｎ Ａｐｐｌｅｔｏｎ氏）。このほどＭｉｃｏｒｎ…
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