Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ＶＬＳＩのショート・コースで製造プロセスを議論 ４５〜３２ｎｍ以降の本命技術とは？
日経マイクロデバイス 第254号 2006.8.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第254号（2006.8.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全225字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （246kb） |
| 雑誌掲載位置 | 105ページ目 |
「２００６ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ ｏｎ ＶＬＳＩ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」の「Ｓｈｏｒｔ Ｃｏｕｒｓｅ」では，４５〜３２ｎｍ世代以降のＬＳＩ向けプロセス技術について，６人が講演した。講演テーマは，プロセス別に六つに分かれ，講演者は日本メーカーが全体の半分を占めた。参加した技術者からは「今回は，６５ｎｍ世代と４５ｎｍ世代の端境期にあるロジックＬＳＩについては新しいプラットフォームの発表が少なく，ややイ…
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