Ｅｍｅｒｇｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ〜ドライ・アイスを噴射し 薬液では取れない異物を９９％除去
日経マイクロデバイス 第240号 2005.6.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第240号（2005.6.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全987字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （53kb） |
| 雑誌掲載位置 | 3ページ目 |
ドライ・アイスを噴射することによって，マスク上の異物を高効率に除去する技術が登場した（図１）。薬液を使った従来の洗浄技術では除去しにくい特殊な異物を，９９．５％という高い確率で除去できる。この４月に開催されたマスク技術の国際会議「Ｐｈｏｔｏｍａｓｋ Ｊａｐａｎ ２００５」で，英ＢＯＣ ＧｒｏｕｐのＥｃｏ−Ｓｎｏｗ Ｓｙｓｔｅｍｓ部門と台湾Ｔａｉｗａｎ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｍａｎｕｆａｃｔ…
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