Ｉｎｔｅｒｖｉｅｗ〜材料で露光技術を塗り替える
日経マイクロデバイス　第237号　2005.3.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第237号（2005.3.1）
ページ数	2ページ　（全2413字）
形式	PDFファイル形式　（113kb）
雑誌掲載位置	144〜145ページ目

液浸ＡｒＦか，液浸Ｆ２か，あるいはＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ　ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）か。３２ｎｍ（ｈｐ４５）以降にどの露光技術を採用するかを巡る議論が白熱している。そのような中，ＪＳＲが発表した液浸ＡｒＦ露光向けの“高屈折率液体”はｈｐ３２に相当するパターンを解像し，液浸ＡｒＦのポテンシャルの高さを示した。この材料が，露光技術のロードマップをどのように塗り替えるのか。高屈折率液体の開発責任者に聞いた…