Ｔｕｔｏｒｉａｌ：ＳｏＣ一発動作のための最新ＬＳＩ設計法＆ＥＤＡ〜マスク設計技術の取り込みが ＤＦＭ実現の早道 インプリメンテーション設計との連携が重要に
日経マイクロデバイス 第234号 2004.12.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第234号（2004.12.1） |
|---|---|
| ページ数 | 6ページ （全5469字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （122kb） |
| 雑誌掲載位置 | 178〜183ページ目 |
須賀 治 先端ＳＯＣ基盤技術開発（ＡＳＰＬＡ）技術部西口 信行 半導体理工学研究センター（ＳＴＡＲＣ）２００４年１０月号に続き，マスク設計工程を取り上げる。前回はリソグラフィやエッチングを補正するためのＯＰＣ（光近接効果補正）を紹介した。今回は今後ＯＰＣと併用して，露光装置の解像度を向上させるためのマスク系ＲＥＴ（ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）ツールなどについ…
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