Ｃｈａｌｌｅｎｇｅｒ〜“蒸気”使う洗浄技術を　半導体の標準プロセスに
日経マイクロデバイス　第231号　2004.9.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第231号（2004.9.1）
ページ数	1ページ　（全1460字）
形式	PDFファイル形式　（26kb）
雑誌掲載位置	162ページ目

砂金　養一　氏アクアサイエンス代表取締役社長　「蒸気を使った洗浄技術を半導体の標準プロセスにしたい」。アクアサイエンス代表取締役社長の砂金養一氏は，薬液やプラズマを使った現状の洗浄プロセスを根底から変えようとしている。かつてＣＭＰ（化学的機械研磨）が登場した時，多くの技術者は半導体プロセスに使えるわけがないと考えていた。しかし，ＣＭＰは今や標準プロセスになっている。蒸気を使った洗浄技術も，同じよう…