Ｒｅｐｏｒｔ［Ｍｅｍｏｒｙ］〜次世代露光は「液浸」へ　可能性調査の段階から脱却
日経マイクロデバイス　第225号　2004.3.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第225号（2004.3.1）
ページ数	3ページ　（全4938字）
形式	PDFファイル形式　（104kb）
雑誌掲載位置	138〜140ページ目

　液浸ＡｒＦエキシマ・レーザー露光技術は，可能性を調査する段階を脱し，急速に実現に向かって歩み出した（図１）。このことが，米Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　ＳＥＭＡＴＥＣＨ（ＩＳＭＴ）が主催する液浸露光技術のワークショップ「Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ　Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ　Ｗｏｒｋｓｈｏｐ」で明らかになった。同ワークショップは２００４年１月２６〜２７日に米国ロサンゼルス市で開催され，参加者数は２４９人と過去…