μレポート［ＬＳＩ製造］〜ＥＢ露光の適用範囲が拡大 先端デバイス開発から 試作・少量生産へ
日経マイクロデバイス 第216号 2003.6.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第216号（2003.6.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全1874字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （95kb） |
| 雑誌掲載位置 | 31〜32ページ目 |
露光技術ＥＢ直描微細化マスクレス電子ビーム（ＥＢ）露光の適用範囲が広がってきた。装置開発が加速して性能が向上してきた結果，従来の先端デバイス開発だけではなく，回路検証やサンプル出荷のための適用事例が増えている。このような中，ＮＥＣエレクトロニクスが各種ＥＢ露光技術の比較検討結果と，これまでに実施した９０〜６５ｎｍプロセス技術ノードのデバイス開発・試作から得たＥＢ直描の技術レベルの分析結果を，５月に…
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