国立財知のＩＰウォッチャ〜プロセス特許で日本は台湾に抜かれた
日経マイクロデバイス　第213号　2003.3.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第213号（2003.3.1）
ページ数	1ページ　（全1076字）
形式	PDFファイル形式　（90kb）
雑誌掲載位置	144ページ目

　台湾Ｓｉファウンドリが米国特許を積極的に取得しているという報告がある。これは企業レベルの話だが，台湾全体でも勢いがある。プロセス関連の米国特許を調べると，出願人の地域別比較で台湾が日本を上回った（図１）。デバイス技術は日本が優勢だが（図２），プロセス技術では少なくとも特許の視点から台湾勢に後れをとった。この結果は，Ｓｉファウンドリを単なるアウトソーシング先と見ていると，技術力で抜き去られる危険性…