解説 囲み〜プロセス開発を 一手に引き受ける
日経マイクロデバイス 第206号 2002.8.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第206号（2002.8.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全853字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （127kb） |
| 雑誌掲載位置 | 116ページ目 |
次世代半導体研究センター 研究センター長廣瀬 全孝 氏 「半導体ＭＩＲＡＩプロジェクト」，「ＨＡＬＣＡプロジェクト」，「あすか」の三つのプロジェクトが利用する筑波の「スーパークリーンルーム産官学連携研究棟（ＳＣＲ）」が立ち上がった（図Ａ）。この３月にクリーン・ルームが竣工して６月半ばに製造装置の搬入がほぼ完了，７月からウエーハ投入を開始した。ＳＣＲには三つのプロジェクトで４００人以上が集結する。国…
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