産業ウオッチャ〜半導体大手5社が共有する 官主導の0.1μm試作ライン 2002年度内の稼働目指す
日経マイクロデバイス 第202号 2002.4.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第202号(2002.4.1) |
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ページ数 | 1ページ (全241字) |
形式 | PDFファイル形式 (63kb) |
雑誌掲載位置 | 25ページ目 |
日本工場戦略 東芝,NEC,日立製作所,三菱電機,富士通の半導体大手5社は0.1μm試作ラインを共有する。官主導で,3月末までに候補工場を公募する(本誌2002年2月号,p.23に関連記事)。第2次補正予算の315億円を使い,産業技術総合研究所が候補工場の建物の一部を買い取り,プロセスの標準化に必要な最低限の装置を新たに導入する。一定の規模でラインが稼働するのは2002年度内の予定。大手5社は共同…
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