産業ウオッチャ〜「あすか」プロジェクト，　目標の早期達成に向け　まず３拠点で並行開発
日経マイクロデバイス　第198号　2001.12.1

日本研究・開発プロセス戦略　半導体先端テクノロジーズ（Ｓｅｌｅｔｅ）は，次世代半導体の技術開発を進める「あすか」プロジェクトに関し，既存の３拠点で並行的に開発を進めることを明らかにした。２００２年４月に完成予定の「つくばスーパークリーンルーム」を待っていては「期限までに目標を達成できない」（Ｓｅｌｅｔｅ）との危機感から，こうした動きに出た。既存の３拠点とは，（１）つくば市のＮＥＣの研究所，（２）横…