産業ウオッチャ〜STARCが標準ルール策定 一つのIPを複数の 工場で製造可能に
日経マイクロデバイス 第195号 2001.9.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第195号(2001.9.1) |
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ページ数 | 1ページ (全649字) |
形式 | PDFファイル形式 (24kb) |
雑誌掲載位置 | 31ページ目 |
日本IPシステムLSI 一つのIP(intellectual property)を複数のLSI工場で容易に作れるようになる。半導体理工学研究センター(STARC)は,0.1μmプロセスに対する標準デザイン・ルールを策定した。これを使ったセル・ライブラリの標準版を2002年第4四半期までに構築する。すでにSTARCに参加する12社が標準としていくことに合意し,NECエレクトロンデバイス,富士通,日立…
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