産業ウオッチャ〜Ｆ２露光開発を進める ベルギーＩＭＥＣ，レジストの 開発プログラムを発表
日経マイクロデバイス 第182号 2000.8.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第182号（2000.8.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全410字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （52kb） |
| 雑誌掲載位置 | 49ページ目 |
欧州露光技術レジスト ベルギーＩＭＥＣが，波長１５７ｎｍ のＦ２エキシマ・レーザー露光技術の開発プログラムを進めている。現在は，中規模の露光面積を持つステッパを使い，Ｆ２露光の基本プロセスを構築中である。２００１年半ばに稼動することを目標に，Ｆ２露光向けレジストの開発を目指した新しいプログラムを立ち上げる計画である。このプログラムでは，共同開発への参加を決めているオランダＡＳＭ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐ…
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