ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（ロジック）〜米Ｍａｇｍａが Ｅｉｎｄｈｏｖｅｎ工科大学内に 研究開発センターを開設
日経マイクロデバイス 第179号 2000.5.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第179号（2000.5.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全278字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （47kb） |
| 雑誌掲載位置 | 169ページ目 |
研究開発論理合成ＬＳＩ設計 米Ｍａｇｍａ Ｄｅｓｉｇｎ Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ， Ｉｎｃ．は，オランダＴｅｃｈｎｉｓｃｈｅ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｅｉｔ Ｅｉｎｄｈｏｖｅｎ（ＴＵＥ）内に研究開発センターを開設した。２人の教授を同センターで採用し，ＲＴＬ（ｒｅｓｉｓｔｅｒ ｔｒａｎｓｆｅｒ ｌｅｖｅｌ）からマスク・データであるＧＤＳ ＩＩへの変換技術の拡充を図る。Ｍａｇｍａの社長兼 ＣＥＯ であるＲａｊｅ…
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