特集 Ｐａｒｔ１〜革新的なＩＰ利用環境が 設計期間を大幅短縮
日経マイクロデバイス 第179号 2000.5.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第179号（2000.5.1） |
|---|---|
| ページ数 | 8ページ （全7445字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （175kb） |
| 雑誌掲載位置 | 62〜69ページ目 |
イノベーションＬＳＩ産業システムＬＳＩ設計技術ＩＰ６カ月かかっていた先端システムＬＳＩの設計を０．５カ月で完了させる。このような目標を実現させるために，革新的なＩＰ（ｉｎｔｅｌｌｅｃｔｕａｌ ｐｒｏｐｅｒｔｙ）利用環境の提案が相次いでいる。ＩＰ流通基盤と設計・検証技術のそれぞれで動きがある。ＩＰ流通基盤では，サービスが新しいフェーズへ移り始めた。特に日本版のＩＰの取引所は，外部機関を巻き込みながら…
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