ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（メモリー）〜ＡｒＦ露光向けレジストを 韓国Ｓａｍｓｕｎｇと 米Ｓｈｉｐｌｅｙが共同開発
日経マイクロデバイス 第176号 2000.2.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第176号（2000.2.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全224字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （36kb） |
| 雑誌掲載位置 | 142ページ目 |
ＤＲＡＭ露光技術微細化 韓国Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．はレジスト大手の米Ｓｈｉｐｌｅｙ Ｃｏ．と共同でＡｒＦエキシマ・レーザー露光向けの新型レジストを開発する。共同開発によってレジストの開発期間を短縮し，ＡｒＦ露光技術を早期に立ち上げることを狙う。開発したレジストは製造権をＳｈｉｐｌｅｙが，使用権をＳａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓが優先的に得るほか，他のメーカ…
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