ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（ロジック）〜東芝の０．１８μｍプロセスで 米Ａｖａｎｔ！のライブラリを 使用可能にした台湾ＷＳＭＣ
日経マイクロデバイス 第164号 1999.2.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第164号（1999.2.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全299字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （45kb） |
| 雑誌掲載位置 | 136ページ目 |
台湾Ｗｏｒｌｄｗｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｃｏｒｐ．（ＷＳＭＣ）は，ＩＰ（ｉｎｔｅｌｌｅｃｔｕａｌ ｐｒｏｐｅｒｔｙ）を使って設計したＬＳＩの新しい製造技術「Ｔ１８」を開発したことを発表した。この製造技術は，東芝のゲート長０．１８μｍのプロセス技術を基にしている。このプロセスに対して米Ａｖａｎｔ！ Ｃｏｒｐ．が，同社のＩＰやセル・ライブラリ群「Ｌｉｂｒａ」を…
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