ニュースの深層〜レノボ大和研、低温はんだをPCで実用化 高信頼・低コストを武器に33ラインへ導入
日経ものづくり 第753号 2017.6.1
掲載誌 | 日経ものづくり 第753号(2017.6.1) |
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ページ数 | 2ページ (全2668字) |
形式 | PDFファイル形式 (439kb) |
雑誌掲載位置 | 24〜25ページ目 |
中国Lenovo社の大和研究所は、スズ(Sn)−ビスマス(Bi)系の低温はんだを使えるリフローはんだ付けプロセス(以下、低温はんだプロセス)を開発、実用化した(図)。Sn−Bi系の低温はんだは鉛(Pb)を含まずに低温でリフローはんだ付けできる利点がある半面、接続信頼性が低くなりやすいという課題があり、実用化に至っていなかった。 今回の低温はんだプロセスでは、リフローはんだ付けの最高温度を従来のP…
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