ＦＯＣＵＳ　高付加価値化〜半導体集積化の技術革新にどう挑んだか　開発者に成功のためのアプローチを聞く
日経ものづくり　第705号　2013.6.1

この記事の情報
掲載誌	日経ものづくり　第705号（2013.6.1）
ページ数	2ページ　（全2475字）
形式	PDFファイル形式　（402kb）
雑誌掲載位置	26〜27ページ目

高付加価値化　半導体の微細加工の限界を飛躍的に延ばした化学増幅フォトレジスト開発の功績により、Ｃ．Ｇｒａｎｔ　Ｗｉｌｌｓｏｎ氏とＪｅａｎ　Ｆｒｅｃｈｅｔ氏に日本国際賞が贈られた（図１）。同フォトレジストの開発は１９７０年代後半から１９８０年代初頭にかけて行われ、現在の半導体プロセスでも使われる中核技術となった。当時所属していた米ＩＢＭ社での研究によって、半導体の集積化の限界を打破した両氏に、「いか…