ＭＡＰ　Ｆｏｃｕｓ〜化学的機械研磨液内の異物を常時監視
日経ものづくり　第565号　2001.10.1

この記事の情報
掲載誌	日経ものづくり　第565号（2001.10.1）
ページ数	1ページ　（全585字）
形式	PDFファイル形式　（94kb）
雑誌掲載位置	118ページ目

　「スラリーモニターシステム・ＭＲ−Ｓ１」は，化学的機械研磨（ＣＭＰ）のときに研磨液中に流出した異物をリアルタイムに測る監視システム。研磨液を希釈せずに原液のまま監視することから，ＣＭＰ装置内に監視システムをインライン化できる。その結果，研磨中に出たゴミで研磨面が傷付くのを防ぎ，歩留まりは大幅に向上。異物の混入を防ぐために設けているフィルタの交換時期も簡単に判別できる。　新しいシステムは，リオンが…