Ｈｏｔ Ｎｅｗｓ〜産総研が２ナノ以降の半導体試作ライン 装置や材料メーカーを支援
日経エレクトロニクス 第1271号 2025.1.1
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第1271号（2025.1.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全2242字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （517kb） |
| 雑誌掲載位置 | 18〜19ページ目 |
産業技術総合研究所（産総研）は２ｎｍ世代以降の先端半導体の試作ラインを構築し、２０２５年３月までに本格稼働させる（図１）。東京エレクトロンとＳＣＲＥＥＮホールディングス、キヤノンがライン構築に参画しており、国内の装置メーカーや材料メーカー、大学などが研究開発に利用できる。産総研はＥＵＶ（極端紫外線）露光装置を利用できる施設も今後整え、欧州や米国並みの先端半導体の研究環境を目指す。 産総研が主導する…
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