NEレポート〜有機半導体をスプレー塗装 理研などが第3の成膜法を開発
日経エレクトロニクス 第1132号 2014.4.14
掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第1132号(2014.4.14) |
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ページ数 | 2ページ (全2223字) |
形式 | PDFファイル形式 (508kb) |
雑誌掲載位置 | 16〜17ページ目 |
新世代塗布型電子デバイス技術研究組合(ECOW)†は、有機半導体材料をスプレー塗装する技術を開発した。「静電噴霧堆積法(ESD)」という技術で、真空蒸着技術、またはスピンコート法やインクジェット法などの塗布技術に代わる、有機半導体の第3の成膜技術になる可能性がある。 ESDは、有機半導体材料を分散させた水性塗料を入れたノズルを陽極として、その陽極と塗装対象となる陰極の間に4k〜5kVの高電圧を印…
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