チュートリアル 転換期の半導体〜ＡＳＩＣの微細化に急ブレーキ，４５ｎｍ世代で壁に直面
日経エレクトロニクス 第999号 2009.3.9
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第999号（2009.3.9） |
|---|---|
| ページ数 | 5ページ （全5730字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （383kb） |
| 雑誌掲載位置 | 94〜98ページ目 |
微細化を続けてきたＡＳＩＣ業界に異変が起きている。４５ｎｍ世代を境に，先端プロセスの採用に急ブレーキがかかっているのだ。ＡＳＩＣ設計者は，微細化による利点が急速に失われていると指摘する。ムーアの法則に沿って発展を遂げてきたＡＳＩＣ業界は，今後どのように変化していくのか。（木村 雅秀＝本誌）Ｒｉｃｈａｒｄ Ａ． Ｑｕｉｎｎｅｌｌ米Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｄｅｓｉｇｎ誌Ｃｏｎｔｒｉｂｕｔｉｎｇ Ｅｄｉｔ…
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