ＮＥＴｓ 基板バイアスと電源電圧の動的制御（２）〜基板バイアス制御の効果を高める プロセス・デバイス技術
日経エレクトロニクス 第924号 2006.4.24
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第924号（2006.4.24） |
|---|---|
| ページ数 | 4ページ （全4104字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （305kb） |
| 雑誌掲載位置 | 141〜144ページ目 |
この連載では，ＮＥＣエレクトロニクスが開発した，電圧制御を軸とするＬＳＩの低消費電力技術を解説する。二回目は，この技術を構成する三つの要素のうち，トランジスタの構造やｈｉｇｈ−ｋ材料といったプロセス・デバイス技術を取り上げる。（浅川 直輝＝本誌）齋藤 敏幸ＮＥＣエレクトロニクス設計技術事業部 シニアエキスパート吉田 誠ＮＥＣエレクトロニクス モバイルシステム事業部 シニアデザインエンジニア相本 代…
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