Ｗｈａｔ’ｓ　Ｎｅｗ〜液体材料でＳｉ　ＴＦＴを形成　エプソンとＪＳＲが共同開発
日経エレクトロニクス　第924号　2006.4.24

この記事の情報
掲載誌	日経エレクトロニクス　第924号（2006.4.24）
ページ数	2ページ　（全2734字）
形式	PDFファイル形式　（263kb）
雑誌掲載位置	28〜29ページ目

　セイコーエプソンとＪＳＲは，インクジェット方式による低温多結晶Ｓｉ　ＴＦＴの形成に成功した注１）。この技術の特徴は，現在のＳｉ　ＴＦＴと次世代技術として注目が集まる有機ＴＦＴの「いいとこ取り」であることだ。　現在，液晶パネルなどで利用されているＳｉ　ＴＦＴはフォトリソグラフィで作製しており，真空装置やクリーン・ルームなど高価な設備が必要であるほか，プロセス時間が長く，材料の利用効率が低いため製造…