Ｗｈａｔ’ｓ Ｎｅｗ〜「使える」界面シミュレータ ｈｉｇｈ−ｋの界面不良を再現
日経エレクトロニクス 第863号 2003.12.22
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第863号（2003.12.22） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全1494字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （89kb） |
| 雑誌掲載位置 | 31ページ目 |
日立製作所は，半導体薄膜などの界面状態を精度良く予測できるシミュレーション技術を開発した。界面に生じる化合物や，薄膜のはがれやすさなどを短期間で計算できる。 原子層にして１０層〜１００層，原子の数にして数千万個から成る系を２週間〜４週間で計算する注１）。これは，実験で界面状態を調べる場合の約１／４の所要時間に相当するという。従来のシミュレーション手法では，計算時間から見て原子数千個ほどの計算が限…
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ（全1494字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
Ｗｈａｔ’ｓ Ｎｅｗ〜ソフト開発でトヨタら先駆け 量産品に自動生成のコード
Ｗｈａｔ’ｓ Ｎｅｗ〜ゴマ粒チップとアンテナで 締めて１０数円なり
Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ〜Ｎｉ水素２次電池 電池容量を１０％増やす 改良次第で３０％増も可能に
Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ〜フィジカル合成ツール 配置情報を考慮して論理合成 ＦＰＧＡの設計期間を３０％〜４０％削減
Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ〜Ｐｏｗｅｒ ｏｖｅｒ Ｅｔｈｅｒｎｅｔ対応チップ マイクロコントローラ機能を備える １２ポート対応品
