ＮＥＴｓ連載講座〜高周波フィルタ ５ＧＨｚ帯ではＦＢＡＲフィルタが最適 ＳＡＷ／誘電体／積層方式と比較（上）
日経エレクトロニクス 第843号 2003.3.17
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第843号（2003.3.17） |
|---|---|
| ページ数 | 8ページ （全7857字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （84kb） |
| 雑誌掲載位置 | 140〜147ページ目 |
富士通研究所と富士通メディアデバイスは，圧電薄膜共振器で構成するＲＦフィルタを共同開発した。同フィルタを利用する上での良しあしや，他フィルタとの性能比較を２回の連載で解説してもらう。今回は３ＧＨｚ帯より高い周波数になるとＦＢＡＲフィルタの方が適する理由を説明する。（堀切 近史＝本誌）佐藤 良夫富士通研究所 ペリフェラルシステム研究所 主席研究員宮下 勉富士通研究所 ペリフェラルシステム研究所 メデ…
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