Ｓｅｌｅｃｔｅｄ　Ｓｈｏｒｔｓ〜日本の特許庁と米特許商標庁　特許審査の結果を相互利用へ
日経エレクトロニクス　第824号　2002.6.17

この記事の情報
掲載誌	日経エレクトロニクス　第824号（2002.6.17）
ページ数	1ページ　（全260字）
形式	PDFファイル形式　（99kb）
雑誌掲載位置	44ページ目

　特許庁と米特許商標庁は，日米両国がそれぞれ個別に進めている特許審査業務について，業務内容の一部を相互に利用することで合意した。２００３年末までに課題や検討項目の洗い出しなどを行い，２００４年に最終的な方針を固める。具体的には，先行技術調査結果（いわゆるサーチ結果）と審査結果を相互利用する。日米双方で特許を出願した場合，両国の特許審査の判断が事実上統一される。ただし，日米どちらかが承認した特許を他…