ニュース・ダイジェスト〜 １９９９年版半導体技術ロードマップを公開
日経エレクトロニクス 第759号 1999.12.13
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第759号（1999.12.13） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全477字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （58kb） |
| 雑誌掲載位置 | 37ページ目 |
米国半導体工業会（ＳＩＡ）は，日本電子機会工業会，欧州電子部品工業会，韓国半導体産業協会，台湾半導体産業協会と共同で作成した１９９９年版半導体技術ロードマップを公表した。今後１５年間にわたる半導体技術の見通しを示している。今後ゲート酸化膜の薄膜化が難しくなる点や，配線遅延が顕著になる点を考慮し，新材料の導入を促している。さらに，集積度が高まるにつれて増大するチップ面積にも触れ，コストの観点から２…
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