ニュース・レポート〜米Ｉｎｔｅｌ社，２００１年に 設計ルール０．１３ｎｍ導入
日経エレクトロニクス 第746号 1999.6.28
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第746号（1999.6.28） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全1228字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （103kb） |
| 雑誌掲載位置 | 35ページ目 |
米Ｉｎｔｅｌ Ｃｏｒｐ．はプロセス技術のロードマップを公表した。２００１年に０．１３ｎｍルールの微細加工技術を導入する。同時にＣｕ配線も採用する計画だ。２００２年には３００ｍｍウエーハを導入し，チップ・コストの低減を図る。 微細加工技術の牽引役が，ついにＤＲＡＭからマイクロプロセサに移る。設計ルール０．１８ｎｍで両者の微細加工技術は横ならびになり，０．１３ｎｍでマイクロプロセサがＤＲＡＭを追い越す…
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