トピックス〜模倣の拠点・中国がデザイン保護セミナーを開催
日経デザイン　第267号　2009.9.1

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掲載誌	日経デザイン　第267号（2009.9.1）
ページ数	1ページ　（全1308字）
形式	PDFファイル形式　（495kb）
雑誌掲載位置	22ページ目

２００９年６月３日〜４日、中国の広東省佛山市順徳区において、米国、ＥＵ、日本、中国の４カ国の特許庁が後援する国際デザイン保護セミナーが開催された。　セミナーは、それぞれの特許庁代表者ならびに国際企業の知財担当者、弁護士、弁理士らがスピーカーとなり、各国のデザイン保護制度の概要、制度の活用方法、デザイン保護の実態などについて解説したほか、スピーカーによるパネルディスカッションが行われた。筆者は日本の…