Low-k（低誘電率膜）材料〈レポート基準年：2011年〉
富士経済グループ「マーケットシェアデータ」
データ更新日：2013年10月02日

このレポートの情報
出典	富士経済グループ「マーケットシェアデータ」
市場分類	Low-k（低誘電率膜）材料〈レポート基準年：2011年〉
情報提供元	株式会社富士経済ネットワークス
PDFページ数	1頁（161kb）

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【レポート概要（レポートから抜粋）】

Low-k（低誘電率膜）材料は、半導体用の配線工程における誘電率（k値）が3.0以下の製品と定義する。従ってSiO2（k=4.0）、FSG（k=3.6）は対象外とする。また、Gap Filling材は目的が異なるため対象外とする。近年、集積回路微細化により配線間の電気容量が増え、信号伝送に遅延傾向･･･

１．市場規模（前年比）
２．市場予測
３．市場動向（販売実績・前年比）
４．マーケットシェア（会社名、販売実績、シェア）
５．市場概要
６．マーケットシェア状況
７．市場展望
８．市場指標／評価