Ｅｍｅｒｇｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ〜逆転の発想でマスク・パターンを設計 ６５ｎｍＦＰＧＡで露光特性の改善を確認
日経マイクロデバイス 第250号 2006.4.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第250号（2006.4.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全1111字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （75kb） |
| 雑誌掲載位置 | 3ページ目 |
逆転の発想でマスク・パターンを設計する「ＩＬＴ（ｉｎｖｅｒｓｅ ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）」と呼ぶ技術に注目が集まっている。ＩＬＴは目標とするウエーハ上の露光形状を基に，光の振る舞いを数学的に逆算することによって，理想のマスク・パターンを導き出す手法である（図１）。現状では回路レイアウトをマスクの基本形状とし，そこに修正を加えながらウエーハ上の露光形状を調整していくのでＩＬＴ…
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