Ｅｍｅｒｇｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ〜ナノ時代に巨大配線技術 １０ＧＨｚの壁を超える
日経マイクロデバイス 第217号 2003.7.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第217号（2003.7.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全1392字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （31kb） |
| 雑誌掲載位置 | 3ページ目 |
厚さ５μｍ，幅１０μｍの巨大なＬＳＩ配線技術が登場した（図１）。一見，微細化と逆行するように思えるが，このような技術がなければ１０ＧＨｚを超えるクロック周波数や数百Ａといった大電流を駆動することは難しい。現在，１３０ｎｍルールで設計したマイクロプロセサはクロックが数ＧＨｚ，電流が１００Ａに達しており，これ以上の性能向上は難しい状況である。このような壁を克服するカギとして巨大配線技術に注目が集まっ…
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