μレポート［ＬＳＩ製造］〜従来の技術トレンドを　打破する「微細化＋α」　具体策が続出
日経マイクロデバイス　第197号　2001.11.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第197号（2001.11.1）
ページ数	2ページ　（全3334字）
形式	PDFファイル形式　（57kb）
雑誌掲載位置	145〜146ページ目

微細化ウエーハ不揮発性　メモリー微細化の追求と，微細化以外の新技術。この二つを組み合わせる「微細化＋α」で，従来のトレンドを上回るロジックＬＳＩやメモリーＬＳＩを実現できる。この方向を目指して技術開発が着実に進歩している姿が，１２月３日〜５日に米国ワシントンＤ．Ｃ．で開かれる「２００１　ＩＥＥＥ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｄｅｖｉｃｅｓ　Ｍｅｅｔｉｎｇ（２００１　ＩＥＤＭ）」で…