技術レター［ＬＳＩ製造＆ＬＳＩ設計］〜東芝，ＳＯＩウエーハ　「ＥＬＴＲＡＮ」を使った　ＬＳＩを２００３年に製品化
日経マイクロデバイス　第197号　2001.11.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第197号（2001.11.1）
ページ数	1ページ　（全245字）
形式	PDFファイル形式　（26kb）
雑誌掲載位置	39ページ目

ＳＯＩＦＥＴシステムＬＳＩ　キヤノンが開発したＳＯＩ（ｓｉｌｉｃｏｎ　ｏｎ　ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）ウエーハ「ＥＬＴＲＡＮ」を使ったＬＳＩの実用化に向けて，東芝とキヤノンが共同開発を進める。東芝は，２００３年に０．１μｍ，２００４年には０．０７μｍのＬＳＩを製品化する。東芝はＳＯＩを使ったＬＳＩの開発結果をキヤノンに提供してウエーハの改良を促進する。ＳＯＩウエーハと「メタル・ダマシン・トランジスタ」と…