ブレークスルー〜「埋もれた技術を見直す」
日経マイクロデバイス　第197号　2001.11.1

２０年前には見向きもされなかった技術が０．０７μｍプロセスの壁を打破する決め手として注目を集めている。アーク放電の瞬間的な発光を使うアニール技術である。「埋もれた技術の中に次への突破口が隠されている」と開発者は語る。東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第四部フロントエンドプロセス技術開発第一担当伊藤　貴之　氏１９７１年，群馬県生まれ。１９９８年，群馬大学大学院工学研究科…