インタビュー〜「３次元化が新時代を切り開く」
日経マイクロデバイス　第195号　2001.9.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第195号（2001.9.1）
ページ数	2ページ　（全2885字）
形式	PDFファイル形式　（54kb）
雑誌掲載位置	20〜21ページ目

過去３０年間にわたり世界のプロセス技術をリードしてきた元東芝セミコンダクター社の奥村勝弥氏が，この８月から東京大学先端科学技術研究センターに移った。目的は，微細化のペースが鈍化してもシステム性能を高められる新技術の開発である。奥村氏は，現状の微細化ペースを今後も維持することは経済的に非常に難しいと指摘している。微細化を補う「＋α」の技術が必要とする。その最有力候補は，３次元の高密度実装技術である。…