論文［ＬＳＩ設計］〜斜め配線を活用した設計技術で 配線長を２０％以上短縮
日経マイクロデバイス 第194号 2001.8.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第194号（2001.8.1） |
|---|---|
| ページ数 | 6ページ （全5605字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （224kb） |
| 雑誌掲載位置 | 159〜164ページ目 |
配線遅延ＣＡＤシステムＬＳＩＬＳＩの高性能化を阻む配線遅延の問題を，プロセスは変えずに配線レイアウトを変えるだけで解決する。このような技術を東芝と米Ｓｉｍｐｌｅｘ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ， Ｉｎｃ．が共同開発した。水平・垂直方向の配線に斜め４５度方向の配線を新たに導入して配線遅延を低減する。斜め配線のアイデアは以前にもあったが，これまで対応できるＣＡＤツールがなかったために利用が限られていた。ここへ来…
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