技術レター［ＬＳＩ設計＆ＬＳＩ製造］〜米ＮＩＳＴが報告した　Ｆ２露光レンズの複屈折問題　露光装置メーカーが対策
日経マイクロデバイス　第194号　2001.8.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第194号（2001.8.1）
ページ数	1ページ　（全462字）
形式	PDFファイル形式　（24kb）
雑誌掲載位置	29ページ目

露光部品・材料微細化　Ｆ２エキシマ・レーザー露光装置に使うレンズ材料の複屈折の問題について，国内の露光装置メーカーが対策を講じ始めた。この複屈折の問題は，５月に米国で開かれた国際シンポジウム「Ｔｈｅ　Ｓｅｃｏｎｄ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍｏｎ　１５７ｎｍ　Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ」で米Ｎａｔｉｏｎａｌ　Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ　ｏｆ　Ｓｔａｎｄａｒｄｓ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（…