μレポート［ＬＳＩ製造］ 囲み〜「Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ ２００１」 ＳＣＡＬＰＥＬ関連の招待講演が中止に
日経マイクロデバイス 第190号 2001.4.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第190号（2001.4.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全936字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （54kb） |
| 雑誌掲載位置 | 150ページ目 |
この３月に米国で開かれた露光技術の国際会議「ＳＰＩＥ’ｓ ２６ｔｈ Ａｎｎｕａｌ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ ｏｎ Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ （Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ ２００１）」では，予定されていた４件の招待講演のうち，電子ビーム（ＥＢ）投影露光技術「ＳＣＡＬＰＥＬ（ＳＣａｔｔｅｒｉｎｇ ｗｉｔｈ Ａｎｇｕｌａｒ Ｌｉｍｉｔａｔｉｏｎ Ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ…
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