μレポート［ＬＳＩ製造］〜リソース不足の克服目指し　国際協力で微細化進める　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　ＳＥＭＡＴＥＣＨ
日経マイクロデバイス　第188号　2001.2.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第188号（2001.2.1）
ページ数	1ページ　（全1621字）
形式	PDFファイル形式　（32kb）
雑誌掲載位置	160ページ目

研究開発共同開発微細化Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　ＳＥＭＡＴＥＣＨ（ＩＳＭＴ）が微細加工技術開発の国際的な協力体制の構築を急いでいる。組織改革に続き，このほど半導体先端テクノロジーズ（Ｓｅｌｅｔｅ）との協力関係を築いた。その狙いをＰｒｅｓｉｄｅｎｔ　ａｎｄ　Ｃｈｉｅｆ　Ｅｘｅｃｕｔｉｖｅ　ＯｆｆｉｃｅｒのＭａｒｋ　Ｍｅｌｌａｒ−Ｓｍｉｔｈ氏が語った。（長広　恭明＝本誌）　ＬＳＩ技術の研究開発は国際…