μレポート［ＬＳＩ製造］〜プロセス制御技術が　次世代方式に移行
日経マイクロデバイス　第188号　2001.2.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第188号（2001.2.1）
ページ数	2ページ　（全2155字）
形式	PDFファイル形式　（36kb）
雑誌掲載位置	157〜158ページ目

ＬＳＩプロセス検査・分析製造装置微細化に伴ってプロセスの精密制御が必要になり，プロセス制御技術が次世代方式に移行しようとしている。この移行に必要な実証データを米Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，　Ｉｎｃ．（ＡＭＡＴ）が公表した。次世代方式をすべての工程に導入するとコスト面で問題が生じるため，効果が大きい工程だけに導入する。この判断材料として，各工程に対する効果を示す実証データが求められていた。今…