産業ウオッチャ〜０．１μｍ以降を目指した　露光，ｈｉｇｈ−ｋ膜，ＣＭＯＳの　プロジェクトをＩＭＥＣが推進
日経マイクロデバイス　第188号　2001.2.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第188号（2001.2.1）
ページ数	1ページ　（全470字）
形式	PDFファイル形式　（26kb）
雑誌掲載位置	27ページ目

欧州研究開発微細化トランジスタ　ベルギーＩＭＥＣが０．１μｍ以降を狙った各種プロジェクトを推進している。露光分野では，２００３年までに量産対応のＡｒＦエキシマ・レーザー露光技術を開発する計画である。このプロジェクトには欧州をはじめ米国や台湾，韓国のＬＳＩ大手が１０社前後参加する。製造装置メーカーでは，露光装置メーカーのオランダＡＳＭ　Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ社と塗布・現像装置メーカーの東京エレクトロ…