インタビュー〜「ナノテクで勝負する」
日経マイクロデバイス　第188号　2001.2.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第188号（2001.2.1）
ページ数	2ページ　（全2698字）
形式	PDFファイル形式　（61kb）
雑誌掲載位置	12〜13ページ目

ニコンのＣＭＰ（化学的機械研磨）装置事業の参入を報道してから本誌に問い合わせが数多く寄せられた。「海外メーカーが露光装置でシェアを伸ばす中，ニコンはそんなことをしている余裕があるのか」。この疑問に，同社社長の吉田庄一郎氏は明快に答える。ニコンのコア技術はナノテクノロジであり，光とファイン・メカニズムが求心力である。全く別の装置ではあるが，露光装置もＣＭＰ装置もこの技術が生きる。ニコンのこのような方…