技術レター［ＬＳＩ製造］〜ロジックとＤＲＡＭのいずれも ０．１３μｍ以降のプロセスが 焦点になった「２０００ ＩＥＤＭ」
日経マイクロデバイス 第187号 2001.1.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第187号（2001.1.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全1331字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （27kb） |
| 雑誌掲載位置 | 27ページ目 |
微細化ＤＲＡＭ学会 ロジックとＤＲＡＭのいずれも０．１３μｍ以降のプロセスが，１２月１１日〜１３日に開かれた「２０００ ＩＥＥＥ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｄｅｖｉｃｅｓ Ｍｅｅｔｉｎｇ（２０００ ＩＥＤＭ）」の焦点になった。ロジックは富士通とソニーの共同グループ，台湾Ｔａｉｗａｎ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．（ＴＳＭＣ），米Ｉｎｔ…
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